台积电7nm工艺再突破,5nm明年也要试产
近日,台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破。一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产,量产则有望在2020年第二季度开始。
近日,台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破。一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产,量产则有望在2020年第二季度开始。
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近日,台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破。一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产,量产则有望在2020年第二季度开始。