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东京电子推新型半导体清洗机 可提高最尖端半导体的成品率

陈皮网
2020-12-25 10:18:44 阅读数:176473
这款清洗机将用于“微细化”和“多层化”的最尖端半导体制造

陈皮网12月25日讯 昨日,据新华社援引日媒报道,日本大型半导体制造设备厂商东京电子宣布,将于2021年1月发售清洗机“CELLESTA SCD”,该产品带干燥功能,可提高最尖端半导体的成品率。通过增加使用“超临界流体”(基本没有表面张力)的干燥工序,防止半导体上的微细结构被破坏。

据悉,这款清洗机将用于“微细化”和“多层化”的最尖端半导体制造,“微细化”是缩小电路线宽,“多层化”是在高度方向上层叠电路。(吴晨霞)

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